X射線輻照儀主要用于培養(yǎng)細(xì)胞，微生物，小鼠及大鼠等生物材料的輻照研究，具有劑量均勻性佳、環(huán)境劑量低、劑量可控、重復(fù)性佳等技術(shù)優(yōu)勢，可用于進(jìn)行動(dòng)物模型建立（腫瘤等）、抗腫瘤/抗輻射/抗化療/抗排異/免疫治療/放射治療/抗體等藥物研究、DNA損傷、Cellcycle、細(xì)胞培養(yǎng)、干細(xì)胞(骨髓移植)、腫瘤、信號(hào)轉(zhuǎn)導(dǎo)、細(xì)胞免疫抑制治療、移植生物學(xué)、基因治療、血液學(xué)、放射生物學(xué)研究等。該系統(tǒng)主要特點(diǎn)如下：

　　劑量均勻性佳，劑量可控，更多劑量率可選擇

　　環(huán)境劑量低，保護(hù)實(shí)驗(yàn)人員

　　高通量：可一次輻照8只以上小鼠或6塊細(xì)胞板

        X射線輻照儀通過人工電子裝置產(chǎn)生的高能X射線（160kV-350kV）對(duì)細(xì)胞或小動(dòng)物（清醒狀態(tài)和麻醉狀態(tài)）進(jìn)行照射，從而用于干細(xì)胞(骨髓移植及分化，飼養(yǎng)層細(xì)胞制備、細(xì)胞誘變等)、DNA損傷、Cellcycle、細(xì)胞培養(yǎng)、血制品照射、腫瘤、信號(hào)轉(zhuǎn)導(dǎo)、免疫、基因治療、放射生物學(xué)、藥物研發(fā)等生物學(xué)輻照研究。具有安全性高、使用方便、可在普通實(shí)驗(yàn)室環(huán)境下使用等優(yōu)點(diǎn)。

　　在放射治療應(yīng)用中，通常利用的X射線能量范圍為90-300kV。50-150kV被稱為淺表X射線，超過90%的入射劑量造成的損傷集中在表面以下5mm深度內(nèi)，通常用于治療皮下腫瘤；而200-500kV被稱為中電壓X射線，超過90%的劑量集中在表面以下2cm的深度內(nèi)，通常用于深部腫瘤的治療。

　　對(duì)于PXix-rad系列的X射線輻照儀，160kV型適用于細(xì)胞、細(xì)菌等及小鼠淺層照射，225kV型適用于細(xì)胞、細(xì)菌和組織器官的照射，也可用于小鼠大鼠的照射，320kV型是理想的小動(dòng)物照射應(yīng)用工具，即可對(duì)小鼠進(jìn)行照射也可用于大鼠。

　　X射線輻照儀除用于小動(dòng)物輻照，還可用于：

　　1.干細(xì)胞：骨髓消融與移植等；

　　2.免疫學(xué)：如：細(xì)胞培養(yǎng)與分裂抑制研究、T/B細(xì)胞的研究和血液細(xì)胞、移植免疫、免疫抑制治療等；

　　3.細(xì)胞水平：細(xì)胞凋亡或老化，信號(hào)轉(zhuǎn)導(dǎo)，激活位點(diǎn)或因子

　　4.基因組學(xué)：基因穩(wěn)定性研究、DNA損傷；

　　5.癌癥生物學(xué)：癌癥干細(xì)胞，腫瘤照射，放療致死劑量研究等；

　　6.微生物學(xué)：微生物免疫、微生物DNA損傷研究、微生物抗輻射研究、微生物致弱與滅活等；

　　7.飼養(yǎng)層細(xì)胞制備

　　8.昆蟲絕育技術(shù)（SIT）

　　9.誘變育種

　　10.食品輻照

　　11.藥物研究：抗輻射藥物、輻射增敏藥物等。